Über Oxidationszahl‐Obergrenzen in der Chemie

Hu, Shu‐Xian; Li, Wan‐Lu; Lu, Jun‐Bo; Bao, Junwei Lucas; Yu, Haoyu S.; Truhlar, Donald G.; Gibson, John K.; Marçalo, Joaquim; Zhou, Mingfei; Riedel, Sebastian; Schwarz, W. H. Eugen; Li, Jun

doi:10.1002/ange.201711450

Title: Über Oxidationszahl‐Obergrenzen in der Chemie

Abstract

Abstract Der Begriff Oxidationszahl ( OS ) ist auf der Basis des Lewis‐Elektronenpaar‐Bildes definiert, wobei Bindungselektronen dem jeweils elektronegativeren Element zugeordnet werden. Der Begriff ist hilfreich zur “Buchhaltung” der Elektronen, zur Vorhersage von chemischen Trends und zur Planung von Synthesewegen. Experimentelle und quantenchemische Befunde legen eine obere Grenze von etwa +8 für die OS in stabilen (neutralen) chemischen Substanzen unter normalen Bedingungen nahe. OS =+9 wurde für das isolierte [IrO ₄ ] ⁺ ‐Kation in der Gasphase beobachtet. Vorhergesagte OS =+10 für das isolierte [PtO ₄ ] ²⁺ ‐Kation wird hier theoretisch nur für tiefe Temperaturen bestätigt, konnte aber noch nicht experimentell verifiziert werden. Verbindungen mit hoher OS tendieren zur spontanen Reduktion des zentralen Metallatoms unter Oxidation der Liganden, etwa von O ⁻² unter Bildung von ^. O ⁻¹ und O‐O‐Bindungen, wobei nicht‐Lewis‐konforme Strukturen gebildet werden können.

Authors:

Hu, Shu‐Xian ^[1]; Li, Wan‐Lu ^[2]; Lu, Jun‐Bo ^[2]; Bao, Junwei Lucas ^[3]; Yu, Haoyu S. ^[3];

^[3];

^[4];

^[5];

^[6];

^[7];

^[8];

^[2]

Key Laboratory of Organic Optoelectronics &, Molecular Engineering of the Ministry of Education Department of Chemistry Tsinghua University Beijing 100084 China, Beijing Computer Science Research Center Haidian Beijing 100193 China
Key Laboratory of Organic Optoelectronics &, Molecular Engineering of the Ministry of Education Department of Chemistry Tsinghua University Beijing 100084 China
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Key Laboratory of Organic Optoelectronics &, Molecular Engineering of the Ministry of Education Department of Chemistry Tsinghua University Beijing 100084 China, Physical and Theoretical Chemistry Lab Universität Siegen 57068 Siegen Deutschland

Publication Date:: Mon Feb 19 00:00:00 EST 2018

Sponsoring Org.:: USDOE

OSTI Identifier:: 1422007

Grant/Contract Number:: AC02-05CH1123

Resource Type:: Publisher's Accepted Manuscript

Journal Name:: Angewandte Chemie

Additional Journal Information:: Journal Name: Angewandte Chemie Journal Volume: 130 Journal Issue: 12; Journal ID: ISSN 0044-8249

Publisher:: Wiley Blackwell (John Wiley & Sons)

Country of Publication:: Germany

Language:: English

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                    Hu, Shu‐Xian, Li, Wan‐Lu, Lu, Jun‐Bo, Bao, Junwei Lucas, Yu, Haoyu S., Truhlar, Donald G., Gibson, John K., Marçalo, Joaquim, Zhou, Mingfei, Riedel, Sebastian, Schwarz, W. H. Eugen, and Li, Jun. Über Oxidationszahl‐Obergrenzen in der Chemie.  Germany: N. p., 2018. 
Web.  doi:10.1002/ange.201711450.

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                    Hu, Shu‐Xian, Li, Wan‐Lu, Lu, Jun‐Bo, Bao, Junwei Lucas, Yu, Haoyu S., Truhlar, Donald G., Gibson, John K., Marçalo, Joaquim, Zhou, Mingfei, Riedel, Sebastian, Schwarz, W. H. Eugen, & Li, Jun. Über Oxidationszahl‐Obergrenzen in der Chemie.  Germany.  https://doi.org/10.1002/ange.201711450

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                    Hu, Shu‐Xian, Li, Wan‐Lu, Lu, Jun‐Bo, Bao, Junwei Lucas, Yu, Haoyu S., Truhlar, Donald G., Gibson, John K., Marçalo, Joaquim, Zhou, Mingfei, Riedel, Sebastian, Schwarz, W. H. Eugen, and Li, Jun. Mon .  
"Über Oxidationszahl‐Obergrenzen in der Chemie".  Germany.  https://doi.org/10.1002/ange.201711450.

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