Abstract
The study examines the so-called `grain boundary maxima` of the internal friction of thin aluminium films on substrates and on solid aluminium bodies. For examining the conditions on substrates, thin films of various thickness were brought onto Si-substrates by vapour deposition at various temperatures. Also, the intermediate layers between the Al-film and the substrate were varied (and consisted of thermal SiO{sub 2}, MoSi{sub 2.2}, Au, or Ti/TiN), so that the specimens differed both in their grainsizes of the thin films and in their adhesive strengths. Other specimens prepared had blown-on thin films of AlSiCu, structured to form narrow strips, in order to present a well-defined grain structure. Measurements of internal friction were made applying two different stress modes, (bending and torsion). The results reveal two main facts: the relaxation values derived from the maxima measured remain constant to a large extent as long as the grain size is approximately equal to the film thickness; and there is a linear increase of the relaxation time derived from the temperature range of the maxima, the increase correlating with the grain size. (orig.) [Deutsch] In der vorliegenden Arbeit wurden die sog. ``Korngrenzenmaxima`` der Inneren Reibung duenner Al-Schichten auf Substraten untersucht. Ziel der Arbeit
More>>
Citation Formats
Prieler, M.
Mechanical relaxation measurements in Al thin films; Mechanische Relaxationsmessungen an Al-Metallisierungsschichten.
Germany: N. p.,
1993.
Web.
Prieler, M.
Mechanical relaxation measurements in Al thin films; Mechanische Relaxationsmessungen an Al-Metallisierungsschichten.
Germany.
Prieler, M.
1993.
"Mechanical relaxation measurements in Al thin films; Mechanische Relaxationsmessungen an Al-Metallisierungsschichten."
Germany.
@misc{etde_10142673,
title = {Mechanical relaxation measurements in Al thin films; Mechanische Relaxationsmessungen an Al-Metallisierungsschichten}
author = {Prieler, M}
abstractNote = {The study examines the so-called `grain boundary maxima` of the internal friction of thin aluminium films on substrates and on solid aluminium bodies. For examining the conditions on substrates, thin films of various thickness were brought onto Si-substrates by vapour deposition at various temperatures. Also, the intermediate layers between the Al-film and the substrate were varied (and consisted of thermal SiO{sub 2}, MoSi{sub 2.2}, Au, or Ti/TiN), so that the specimens differed both in their grainsizes of the thin films and in their adhesive strengths. Other specimens prepared had blown-on thin films of AlSiCu, structured to form narrow strips, in order to present a well-defined grain structure. Measurements of internal friction were made applying two different stress modes, (bending and torsion). The results reveal two main facts: the relaxation values derived from the maxima measured remain constant to a large extent as long as the grain size is approximately equal to the film thickness; and there is a linear increase of the relaxation time derived from the temperature range of the maxima, the increase correlating with the grain size. (orig.) [Deutsch] In der vorliegenden Arbeit wurden die sog. ``Korngrenzenmaxima`` der Inneren Reibung duenner Al-Schichten auf Substraten untersucht. Ziel der Arbeit war es, die Unterschiede zwischen Al-Schichten auf Substraten und Massivaluminium aufzuklaeren. Dazu wurden Schichten verschiedener Schichtdicken auf Si-Substraten bei verschiedenen Aufdampftemperaturen hergestellt. Ferner wurde die Zwischenschicht zwischen Al-Film und Substrat variiert (thermisches SiO{sub 2}, MoSi{sub 2.2}, Au, Ti/TiN). Damit konnte sowohl die Korngroesse der Schicht als auch die Haftung veraendert werden. Ausserdem wurden aufgestaeubte AlSiCu-Schichten in schmale Streifen strukturiert, um so eine moeglichst definierte Kornstruktur zu erreichen. Die Messungen der Inneren Reibung wurden in zwei verschiedenen Spannungsmoden (Biegung und Torsion) durchgefuehrt. Die wichtigsten Messergebnisse sind zum einen die weitgehende Konstanz der aus der Hoehe der Maxima abgeleiteten Relaxationsstaerke, solange die Korngroesse ungefaehr gleich der Schichtdicke ist. Zum anderen wird ein lineares Ansteigen der aus der Temperaturlage der Maxima gewonnenen Relaxationszeit mit der Korngroesse beobachtet. (orig.)}
place = {Germany}
year = {1993}
month = {Jun}
}
title = {Mechanical relaxation measurements in Al thin films; Mechanische Relaxationsmessungen an Al-Metallisierungsschichten}
author = {Prieler, M}
abstractNote = {The study examines the so-called `grain boundary maxima` of the internal friction of thin aluminium films on substrates and on solid aluminium bodies. For examining the conditions on substrates, thin films of various thickness were brought onto Si-substrates by vapour deposition at various temperatures. Also, the intermediate layers between the Al-film and the substrate were varied (and consisted of thermal SiO{sub 2}, MoSi{sub 2.2}, Au, or Ti/TiN), so that the specimens differed both in their grainsizes of the thin films and in their adhesive strengths. Other specimens prepared had blown-on thin films of AlSiCu, structured to form narrow strips, in order to present a well-defined grain structure. Measurements of internal friction were made applying two different stress modes, (bending and torsion). The results reveal two main facts: the relaxation values derived from the maxima measured remain constant to a large extent as long as the grain size is approximately equal to the film thickness; and there is a linear increase of the relaxation time derived from the temperature range of the maxima, the increase correlating with the grain size. (orig.) [Deutsch] In der vorliegenden Arbeit wurden die sog. ``Korngrenzenmaxima`` der Inneren Reibung duenner Al-Schichten auf Substraten untersucht. Ziel der Arbeit war es, die Unterschiede zwischen Al-Schichten auf Substraten und Massivaluminium aufzuklaeren. Dazu wurden Schichten verschiedener Schichtdicken auf Si-Substraten bei verschiedenen Aufdampftemperaturen hergestellt. Ferner wurde die Zwischenschicht zwischen Al-Film und Substrat variiert (thermisches SiO{sub 2}, MoSi{sub 2.2}, Au, Ti/TiN). Damit konnte sowohl die Korngroesse der Schicht als auch die Haftung veraendert werden. Ausserdem wurden aufgestaeubte AlSiCu-Schichten in schmale Streifen strukturiert, um so eine moeglichst definierte Kornstruktur zu erreichen. Die Messungen der Inneren Reibung wurden in zwei verschiedenen Spannungsmoden (Biegung und Torsion) durchgefuehrt. Die wichtigsten Messergebnisse sind zum einen die weitgehende Konstanz der aus der Hoehe der Maxima abgeleiteten Relaxationsstaerke, solange die Korngroesse ungefaehr gleich der Schichtdicke ist. Zum anderen wird ein lineares Ansteigen der aus der Temperaturlage der Maxima gewonnenen Relaxationszeit mit der Korngroesse beobachtet. (orig.)}
place = {Germany}
year = {1993}
month = {Jun}
}